，在八五年、八六年损失一亿美元，不得不裁员七成；八八年，美国通用信号公司以七千六百万美元收购了陷入财务困境的gca，为了与尼康竞争，sematech美国半导体制造技术战略联盟资助gca开发成功kr光刻机，实现了1μm制程工艺，但尼康光刻机的制程工艺提升到800nm，gca的高端市场份额没有多大起色。
六六年，中k院109所与沪海光学仪器厂联手协作成功研制中国第一台光刻机、65型接触式光刻机。
八一年，中k院半导体研究所研制成功jk1半自动接近式光刻机。
八二年，109厂、冰城量具刃具厂和阿城继电器厂共同研制成功kha751型半自动接近式光刻机，在指标上已经完全对标日本的型。
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